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1. Maske

   Beteiligt: Galembo, Phyllis (GeistigeR SchöpferIn); Okeke-Agulu, Chika (VerfasserIn eines Vorworts); Boot, Chris (HerausgeberIn)

   Erschienen: 2016; ©2016

   Verlag:  aperture, New York, NY

   • Bibliographische Angaben
   • Zugang
   • Export

   Berlin: Haus der Kulturen der Welt, HKW.Bibliothek

   Standort:

   Haus der Kulturen der Welt, HKW.Bibliothek

   Signatur:

   KH 200 Gal

   Fernleihe:

   keine Ausleihe von Bänden, nur Papierkopien werden versandt

   Berlin: Macromedia Library Berlin

   Standort:

   Macromedia Library Berlin

   Signatur:

   LH 40010

   Fernleihe:

   keine Fernleihe

   Bremen: Staats- und Universitätsbibliothek Bremen

   Standort:

   Staats- und Universitätsbibliothek Bremen

   Signatur:

   391.8 MAS

   Fernleihe:

   keine Fernleihe

   Freiburg/Breisgau: Bibliothek der Pädagogischen Hochschule Freiburg/Breisgau

   Standort:

   Bibliothek der Pädagogischen Hochschule Freiburg/Breisgau

   Signatur:

   LC 16465 G152

   Fernleihe:

   uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe

   Halle/Saale: Burg Giebichenstein Kunsthochschule Halle, Hochschulbibliothek

   Standort:

   Burg Giebichenstein Kunsthochschule Halle, Hochschulbibliothek

   Signatur:

   A 40487

   Fernleihe:

   uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe

   Hamburg: Staats- und Universitätsbibliothek Hamburg Carl von Ossietzky

   Standort:

   Hochschule für Angewandte Wissenschaften Hamburg, Hochschulinformations- und Bibliotheksservice (HIBS), Fachbibliothek Technik, Wirtschaft, Informatik

   Signatur:

   Ac.M.23

   Fernleihe:

   keine Fernleihe

   Hannover: Bibliothek der Hochschule Hannover

   Standort:

   Bibliothek im Kurt-Schwitters-Forum

   Signatur:

   FOT GALE,P 1

   Fernleihe:

   uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe

   Karlsruhe: Zentrum für Kunst und Medien Karlsruhe / Staatliche Hochschule für Gestaltung, Bibliothek

   Standort:

   Zentrum für Kunst und Medien Karlsruhe / Staatliche Hochschule für Gestaltung, Bibliothek

   Signatur:

   Fdm Gal20 0001

   Fernleihe:

   uneingeschränkte Fernleihe, Kopie und Ausleihe

   Export in Literaturverwaltung

   RIS-Format   BibTeX-Format

   Quelle:	Verbundkataloge
   Beteiligt:	Galembo, Phyllis (GeistigeR SchöpferIn); Okeke-Agulu, Chika (VerfasserIn eines Vorworts); Boot, Chris (HerausgeberIn)
   Sprache:	Englisch
   Medientyp:	Buch (Monographie)
   Format:	Druck
   ISBN:	9781597113533
   RVK Klassifikation:	AP 94100 ; LC 16465
   Auflage/Ausgabe:	Second edition
   Schlagworte:	Galembo, Phyllis; Fotografie; Maske <Motiv>;
   Umfang:	208 Seiten